微束是什么 中科院光刻机有哪些应用
等离子焊接注意什么要点？我想问下Flory的插线板模型和以前的缨状微束模型有什么区别？氩弧焊接与等离子焊接有什么不同？在微束等离子弧焊中,转移弧的作用是什么？清华新成果有望解决光刻机自研难题，这是怎么回事？在微束等离子弧焊中，转移弧的作用是什么？5160？
本文导航
等离子焊有用到哪些配件
等离子弧焊是利用等离子弧作为热源的焊接方法。气体由电弧加热产生离解，在高速通过水冷喷嘴时受到压缩，增大能量密度和离解度，形成等离子弧。形成等离子弧的气体和它周围的保护气体一般用氩。
等离子焊接与TIG焊十分相似，它们的电弧都是在尖头的钨电极和工件之间形成的。但是，通过在焊炬中安置电极，能将等离子弧从保护气体的气囊中分离出来，随后推动等离子通过孔型良好的铜喷管将弧压缩。通过改变孔的直径和等离子气流速度，可以实现三种操作方式：
1、微束等离子：0.1～15A
在很低的焊接电流下，也能使用微束等离子弧。即使在弧长变化不超过20mm时，柱状弧仍能保持稳定。
2、中等电流：15～200A
在较大的15～200A电流下，等离子弧的过程特点与TIG弧相似，但由于等离子被压缩过，弧更加挺直。虽然可提高等离子气流速度来增加焊接熔池的度深，但会造成在紊乱的保护气流中，混入空气和保护气体的风险。
3、小孔型等离子：大于100A
通过增加焊接电流和等离子气流速度，可产生强有力的等离子束，与激光或电子束焊接一样，它能够在材料上形成充分的熔深。焊接时，随着焊接熔池的流动，金属穿过小孔被切割后在表面张力作用下形成焊道。单道焊时，该过程可用于焊接较厚的材料（厚度不超过10mm的不锈钢）。
rfm模型数据分析
touchhappy(站内联系TA)你说的是对的，就是酱紫滴~~Flory的插线板模型跟fringed micell model的本质区别在于，flory将片晶的概念引入到结晶模型中，而fringed micell model并没有考虑这一点，除此之外，二者在其他部分几乎是完全一样的，只是表述方式略有不同而已。其实keller的folded chain model与flory的配电板模型也不存在本质上的区别，可大家争了几十年，争来争去，说起来，只不过是言语上的争执罢了~~古道龙风(站内联系TA)还是有区别的。两者都认为聚合物晶体存在晶区和非晶区。不过，缨状微束模型认为，分子链不是无规线团，而是部分链段规整排列，形成晶区；插线板模型则坚持无规线团理论，认为结晶时，分子链构象是无规的，只是在晶格做部分链段的调整。总的来说，Flory的插线板模型更接近事实。:secret:suchanghong(站内联系TA)两个模型的均方末端距是不一样的。插线板模型的均方末端距接近无扰链。后来的实验验证了这一点。
激光焊接与氩弧焊优缺点
氩弧焊接与等离子焊接的不同之处有：
1、原理不一样：氩弧焊技术是在普通电弧焊的原理的基础上，利用氩气对金属焊材的保护，通过高电流使焊材在被焊基材上融化成液态形成熔池，使被焊金属和焊材达到冶金结合的一种焊接技术。等离子弧切割是一种常用的金属和非金属材料切割工艺方法。
2、种类不一样：氩弧焊按照电极的不同分为熔化极氩弧焊和非熔化极氩弧焊两种。等离子弧有两种，一种是“非转移弧”，另一种是“转移弧”。
3、特点不一样：氩弧焊有电流密度大，热量集中，熔敷率高，焊接速度快等特点。等离子弧焊接具有能量集中、生产率高、焊接速度快、应力变形小、电孤稳定且适宜焊接薄板和箱材等特点。
参考资料：
百度百科-氩弧焊
百度百科-等离子弧焊
电子束焊有多少电子束转化成x射线
焊接时存在两个电弧，一个是燃烧于电极与喷嘴之间的非转移弧，另一个为燃烧于电极与焊件之间的转移弧，前者起着引弧和维弧作用，使转移弧在电流小至0．5A时仍非常稳定，后者用于熔化工件。
中科院光刻机有哪些应用
SSMB光源的潜在应用之一是将来成为EUV光刻机的光源，这是国际社会高度重视清华大学SSMB研究的重要原因。在芯片制造行业，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂，最关键的工艺步骤，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，在半个多世纪以来，波长光刻技术的光源的规模正在缩小，这已被芯片行业公认为是新一代的主流光刻技术是使用波长为13.5纳米的光源的EUV光刻技术。
相当于使用直径仅为直径的十分之一的极紫外光最后，一块指甲大小的芯片将包含数百亿个晶体管。该设备过程显示了人类技术发展的最高水平。荷兰ASML目前是世界上唯一的EUV光刻机供应商，每台EUV光刻机的价格都超过1亿美元，大功率EUV光源是EUV光刻机的核心基础。目前ASML使用高能脉冲激光轰击液态锡靶以形成等离子体，然后产生波长为13.5纳米的EUV光源，功率约为250瓦。
随着芯片工艺节点的不断缩小，预计对EUV光源的需求将继续增加，达到千瓦级别。简而言之，光刻机所需的EUV光需要短波长和高功率，大功率EUV光源的突破对于EUV光刻技术的进一步应用和发展至关重要。基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并有可能扩展到更短的波长，为突破大功率EUV光源提供了新的解决方案。我国自主研发EUV光刻机还有很长的路要走。基于SSMB的EUV光源有望解决自行开发的光刻机中最核心的“卡死”问题。
这就需要对SSMB EUV光源进行持续的科学技术研究，以及上下游产业链的合作，才能取得真正的成功。专业人士认为这项研究展示了一种新的方法，并且肯定会引起对粒子加速器和同步加速器辐射领域的兴趣，该实验演示了如何结合现有的两种主要加速器光源的特性：同步辐射辐射光源和自由电子激光器，有望将SSMB光源用于EUV中，是光刻和角度分辨光电子能量的未来。清华大学正在积极支持和推动在国家一级建立SSMB EUV光源项目，清华SSMB研究小组已向国家发改委提交了“稳态微束极紫外光源研究装置”的项目提案，并宣布了“十四五”期间国家重大的科学技术基础设施计划”。
微束等离子焊机要加水吗
转移弧的作用是熔化工件
